英特尔院士前瞻演讲：摩尔定律会持续下去-科技频道-金鱼财经网

美国英特尔院士Vivek Singh在第52届设计自动化大会（DAC 2015：美国旧金山，2015年6月7日～11日）的“前瞻演讲（Visionary Talk）”中发表了题为“Moore"s law at Fifty : No end in sight”的演讲。大概因为英特尔的员工不可能说“摩尔定律会终结”，因此很多听众都想听听他的见解。

Vivek Singh在演讲题目中就给出了结论。那就是摩尔定律不会终结。理由有两个。即：（1）大家都希望摩尔定律持续下去。（2）摩尔定律不是一个自然规律，而是很多人努力的结果，所以今后还会激励人们超越极限。只有这些论据的话，就成了精神论，Vivek Singh也给出了技术方面的论据。

由校正转向ILT 英特尔的幻灯片。 （点击放大）10nm还在开发之中 英特尔的幻灯片。 （点击放大）
比如，Vivek Singh按照半导体微细化的进程，介绍了作为维持摩尔定律的一项技术，掩模图案校正的演变过程。Vivek Singh指出，今后有效的做法并不是对作为设计结果的掩模图案进行校正，而是采用可谓逆向思维的反向光刻技术（ILT：Inverse Lithography Technology）。ILT是根据想要的转印图案反向计算掩模图案的技术，可制作出采用四边形、圆弧等很多形状的掩模图案来。这个转印图案是什么？ 英特尔的幻灯片。 （点击放大）答案是“摩尔，谢谢你” 英特尔的幻灯片。 （点击放大）

Vivek Singh播放了一个幻灯片，介绍了14nm已开始量产，10nm还在开发之中，7nm尚在研究阶段。他没有具体介绍10nm，没有透露会采用什么技术。至于会不会采用ILT，也没有涉及。在演讲的最后，Vivek Singh以猜谜的方式介绍了转印图案为“摩尔，谢谢你”的掩模图案。