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应用材料公司(Applied Materials)宣布推出Applied Varian VIISta 900 3D 系统。这款先进的中电流离子植入机台专门用于制造次20奈米以下的 FinFET 以及 3D 快闪记忆体(NAND)元件设计。该系统在精密材料工程设计方面采用多项创新技术，提供无可比拟的控制功能，协助提升元件效能、减少变异性，并让日渐复杂的高效能、高密度 3D 元件良率大幅增加。
VIISta 900 3D 系统提供强化的离子光束入射角度精密度、突破性的离子光束形状精确度，以及卓越的植入剂量和均匀度控制，协助客户达到制程再现性及最佳元件效能。系统采用独特的加热植入技术及三个离子束偏转磁铁架构，协助减少外来粒子和污染，进一步提升元件良率。结合以上功能，可支援制造复杂 3D 架构所需的精密植入。
SuperScan 3 是VIISta 900 3D 系统中主要的创新，运用机台独特的离子光束形状控制，支援客制化的晶圆离子植入剂量的特殊分布图形，可针对任何所需图形提供精确、精密的客制剂量分布。 SuperScan 3 可修正非离子植入制程造成的变异，提升元件效能及 3D元件良率。以上各种功能结合系统的生产力改善，以及系统的高产出，协助客户显著地降低运作和持有成本。
VIISta 900 3D 机台除了针对 FinFET 及 3D NAND 元件制造提供先进技术能力，也具备精密度及低污染等特色，对于行动电子商品逐渐增加使用的 CMOS 影像感测器中的发光二极体及逻辑元件结构而言，可说是最佳的制程选择。
